Материал подложки

Керамические подложки, изготовленные из оксида алюминия Al2O3, являются основой для создания гибридных интегральных схем (ГИС), керамических конденсаторов, резисторов и других полупроводниковых элементов и электротехнических изделий.

Главное достоинство подложек, изготовленных на основе AlN, – это высокая теплопроводность - от 170 Вт/моК. Именно поэтому керамика на основе AlN используется в случаях, когда необходим отвод значительных объемов выделяемого тепла. Также, AlN обладает высокой чистотой структуры и химической однородностью.

Фокон
Материал Оксид алюминия (Al2O3; 96 %) Нитрид алюминия (AlN)
Стандартный размер, мм 101.6 x 101.6 101.6 x 101.6
Стандартная толщина, мм 0,63; 1; 0.5 0,63; 1; 0.5
Возможная толщина, мм 0.1……2 0.1……2
Теплопроводность, W/м°K * 20 20
Температурный коэффициент расширения, x 10-6 /°K ** 6,4 6,4
Напряжение электрического пробоя, КV/мм > 15 > 15
Диэлектрическая константа (1 MHz): 9,5 9,5
* Диапазон температур 20 … 100 °C
** Диапазон темератур 20 … 300 °C
Выбор нужного материала зависит от дальнейшего использования подложек. Важную роль играет процентное содержание оксида алюминия или нитрида алюминия в общем объеме и его кристаллическая решетка. Для нестандартных применений мы можем подобрать материал по требованиям заказчика. Для нестандартных применений в качестве подложки могут использоваться полимерные материалы, алюминиевые сплавы и нержавеющая сталь
Получить техническую консультацию
Мы
развиваем технологии
Нажимая кнопку “Отправить” вы соглашаетесь на обработку персональных данных